Кожитов, Л. В. Технология эпитаксиальных слоев и гетерокомпозиций [Электронный ресурс] : учебно-методическое пособие / Кожитов Л. В. - Москва : Издательский Дом МИСиС, 2001. - 157 с. - Б. ц. Книга находится в Премиум-версии ЭБС IPRbooks. Режим доcтупа:
Кл.слова (ненормированные): гетерокомпозиция -- жидкофазная эпитаксия -- микроэлектроника -- парофазная эпитаксия -- твердотельная электроника Аннотация: Даны краткая история и пути и перспективы развития микроэлектроники, в частности, в области технологии эпитаксиальных гетерокомпозиций. Кратко описаны процессы парофазной эпитаксии химическим осаждением и жидкофазной эпитаксии кремния, соединений ΑIIIΒV и их твердых растворов, применяемого оборудования. Приведены математические модели этих процессов, включающие термодинамический и кинетический блоки. При получении гетерокомпозиций учитываются упругие напряжения и рассматриваются пути их устранения, в частности, создание изопериодных композиций и сверхрешеток. Кроме того, приведены восемь комплексных задач для самостоятельного вычислительного эксперимента при выборе параметров процесса, а также процедура решения задач с использованием разработанного пакета программ на ПЭВМ. Предназначено для студентов, обучающихся по специальности 200100 (направление 654100), а также для научных сотрудников и инженеров-технологов, занимающихся разработкой систем управления и оптимизации технологических процессов. Доп.точки доступа: Крапухин, В. В.; Улыбин, В. А. Свободных экз. нет |