Вид документа : Однотомное издание Шифр издания : 98133 Автор(ы) : Кожитов Л. В., Крапухин В. В., Улыбин В. А. Заглавие : Технология эпитаксиальных слоев и гетерокомпозиций : Учебно-методическое пособие Выходные данные : Москва: Издательский Дом МИСиС, 2001 Колич.характеристики :157 с Примечания : Книга находится в Премиум-версии ЭБС IPRbooks. Цена : Б.ц. УДК : 62 ББК : 32.85 Ключевые слова (''Своб.индексиров.''): гетерокомпозиция--жидкофазная эпитаксия--микроэлектроника--парофазная эпитаксия--твердотельная электроника Аннотация: Даны краткая история и пути и перспективы развития микроэлектроники, в частности, в области технологии эпитаксиальных гетерокомпозиций. Кратко описаны процессы парофазной эпитаксии химическим осаждением и жидкофазной эпитаксии кремния, соединений ΑIIIΒV и их твердых растворов, применяемого оборудования. Приведены математические модели этих процессов, включающие термодинамический и кинетический блоки. При получении гетерокомпозиций учитываются упругие напряжения и рассматриваются пути их устранения, в частности, создание изопериодных композиций и сверхрешеток. Кроме того, приведены восемь комплексных задач для самостоятельного вычислительного эксперимента при выборе параметров процесса, а также процедура решения задач с использованием разработанного пакета программ на ПЭВМ. Предназначено для студентов, обучающихся по специальности 200100 (направление 654100), а также для научных сотрудников и инженеров-технологов, занимающихся разработкой систем управления и оптимизации технологических процессов. Доп.точки доступа: Крапухин, В. В.; Улыбин, В. А.