Версия для слабовидящих: Вкл Выкл Изображения: Вкл Выкл Размер шрифта: A A A Цветовая схема: A A A A
Главная ИРБИС64+ Упрощенный режим Описание
Авторизация
Логин
Пароль
 

Базы данных


ЭБС IPRBooks- результаты поиска

Вид поиска
Электронный каталог
Картотека журнальных статей
Систематический имидж-каталог
Авторефераты диссертаций
Учебники и учебно-методические пособия СПХФУ
ЭБС IPRBooks
ЭБС Консультант студента
ЭБС Юрайт
Диссертации, защищенные в СПХФУ
Журнальный фонд СПХФУ
Библиотечный фонд техникума
ВКР
Область поиска
Формат представления найденных документов:
полный информационныйкраткий
Отсортировать найденные документы по:
авторузаглавиюгоду изданиятипу документа
Поисковый запрос: (<.>K=экспонирование<.>)
Общее количество найденных документов : 2
Показаны документы с 1 по 2
1.

Вид документа : Однотомное издание
Шифр издания : 76102
Автор(ы) : Бондарева Н. И.
Заглавие : Архитектурный образ и его коммуникативно-экспозиционные возможности : Монография
Выходные данные : Астрахань: Астраханский инженерно-строительный институт, ЭБС АСВ, 2016
Колич.характеристики :201 с
Примечания : Книга находится в Премиум-версии ЭБС IPRbooks.
ISBN, Цена 978-5-93026-043-4: Б.ц.
УДК : 7.01
ББК : 85.11
Ключевые слова (''Своб.индексиров.''): архитектурный образ--искусство--культуроведение--экспонирование
Аннотация: В монографии проводится комплексное изучение архитектурного образа в русле различных теоретико-методологических парадигм: философской, искусствоведческой, социокультурной и др. Исследование освещает одну из уникальных способностей архитектуры и ее образов выступать в качестве объекта экспонирования в различных видах искусства. Работа может быть использована в учебном процессе высших и средних учебных заведений, а также представляет интерес для культурологов, архитекторов, искусствоведов и социологов.
(для доступа требуется авторизация)

Найти похожие
2.

Вид документа : Однотомное издание
Шифр издания : 56066
Автор(ы) : Юрчук С. Ю.
Заглавие : Компьютерное моделирование нанотехнологий, наноматериалов и наноструктур. Математическое моделирование фотолитографических процессов и процессов электронной литографии при создании субмикронных структур и структур с нанометровыми размерами : Курс лекций
Выходные данные : Москва: Издательский Дом МИСиС, 2013
Колич.характеристики :45 с
Примечания : Книга находится в Премиум-версии ЭБС IPRbooks.
ISBN, Цена 978-5-87623-662-3: Б.ц.
УДК : 539
ББК : 32.81
Ключевые слова (''Своб.индексиров.''): математическое моделирование--субмикронная структура--фотолитография--электронная литография
Аннотация: Курс лекций описывает основные математические модели фотолитографии и электронной литографии, используемых при создании субмикронных структур. Приведены модели отдельных процессов фотолитографии: формирование изображения в фоторезисте, экспонирование, травление фоторезиста. Показаны ограничения, которые накладываются на процесс фотолитографии. Приведена теория электронной эмиссии, используемая для моделирования формирования электронного пучка. Описан эффект близости, который вносит ограничения в точность формирования изображения при электронной литографии. Показаны способы коррекции эффекта близости. Предназначен для студентов, обучающихся в магистратуре по направлению 210100 «Электроника и наноэлектроника».
(для доступа требуется авторизация)

Найти похожие
 
Стандартный
Расширенный
Профессиональный
Распределенный
По словарю
ГРНТИ-навигатор
УДК-навигатор
ББК-навигатор
Тематический навигатор
Статистика обращений
Статистика
за 03.07.2024
Число запросов 0
Число посетителей 0
Число заказов 0
© Международная Ассоциация пользователей и разработчиков электронных библиотек и новых информационных технологий
(Ассоциация ЭБНИТ)