Фундаментальная библиотека ФГБОУ ВО СПХФУ Минздрава России

Версия для слабовидящих: Вкл Выкл Изображения: Вкл Выкл Размер шрифта: A A A Цветовая схема: A A A A

Главная

ИРБИС64+

Упрощенный режим

Описание

Базы данных

ЭБС IPRBooks- результаты поиска

Вид поиска

Электронный каталог

Картотека журнальных статей

Систематический имидж-каталог

Авторефераты диссертаций

Учебники и учебно-методические пособия СПХФУ

ЭБС IPRBooks

ЭБС Консультант студента

ЭБС Юрайт

Диссертации, защищенные в СПХФУ

Журнальный фонд СПХФУ

Библиотечный фонд техникума

ВКР

Область поиска

Формат представления найденных документов:
полный	информационный	краткий

Отсортировать найденные документы по:
автору	заглавию	году издания	типу документа

Поисковый запрос: (<.>K=экспонирование<.>)

Общее количество найденных документов : 2
Показаны документы с 1 по 2

IPRBooks-76102

76102

Бондарева, Н. И.
Архитектурный образ и его коммуникативно-экспозиционные возможности [Электронный ресурс] : монография / Бондарева Н. И. - Астрахань : Астраханский инженерно-строительный институт, ЭБС АСВ, 2016. - 201 с. - ISBN 978-5-93026-043-4 : Б. ц.
Книга находится в Премиум-версии ЭБС IPRbooks.
Режим доcтупа:

УДК

7.01

ББК 85.11

Кл.слова (ненормированные):
архитектурный образ -- искусство -- культуроведение -- экспонирование
Аннотация: В монографии проводится комплексное изучение архитектурного образа в русле различных теоретико-методологических парадигм: философской, искусствоведческой, социокультурной и др. Исследование освещает одну из уникальных способностей архитектуры и ее образов выступать в качестве объекта экспонирования в различных видах искусства. Работа может быть использована в учебном процессе высших и средних учебных заведений, а также представляет интерес для культурологов, архитекторов, искусствоведов и социологов.

(для доступа требуется авторизация)

Свободных экз. нет
Найти похожие

IPRBooks-56066

56066

Юрчук, С. Ю.
Компьютерное моделирование нанотехнологий, наноматериалов и наноструктур. Математическое моделирование фотолитографических процессов и процессов электронной литографии при создании субмикронных структур и структур с нанометровыми размерами [Электронный ресурс] : курс лекций / Юрчук С. Ю. - Москва : Издательский Дом МИСиС, 2013. - 45 с. - ISBN 978-5-87623-662-3 : Б. ц.
Книга находится в Премиум-версии ЭБС IPRbooks.
Режим доcтупа:

УДК

539

ББК 32.81

Кл.слова (ненормированные):
математическое моделирование -- субмикронная структура -- фотолитография -- электронная литография
Аннотация: Курс лекций описывает основные математические модели фотолитографии и электронной литографии, используемых при создании субмикронных структур. Приведены модели отдельных процессов фотолитографии: формирование изображения в фоторезисте, экспонирование, травление фоторезиста. Показаны ограничения, которые накладываются на процесс фотолитографии. Приведена теория электронной эмиссии, используемая для моделирования формирования электронного пучка. Описан эффект близости, который вносит ограничения в точность формирования изображения при электронной литографии. Показаны способы коррекции эффекта близости. Предназначен для студентов, обучающихся в магистратуре по направлению 210100 «Электроника и наноэлектроника».

(для доступа требуется авторизация)

Свободных экз. нет
Найти похожие

Тематический навигатор

Статистика обращений

Статистика за 29.06.2024
Число запросов	0
Число посетителей	0
Число заказов	0

© Международная Ассоциация пользователей и разработчиков электронных библиотек и новых информационных технологий
(Ассоциация ЭБНИТ)