Фундаментальная библиотека ФГБОУ ВО СПХФУ Минздрава России

Версия для слабовидящих: Вкл Выкл Изображения: Вкл Выкл Размер шрифта: A A A Цветовая схема: A A A A

Главная

ИРБИС64+

Упрощенный режим

Описание

Базы данных

ЭБС IPRBooks- результаты поиска

Вид поиска

Электронный каталог

Картотека журнальных статей

Систематический имидж-каталог

Авторефераты диссертаций

Учебники и учебно-методические пособия СПХФУ

ЭБС IPRBooks

ЭБС Консультант студента

ЭБС Юрайт

Диссертации, защищенные в СПХФУ

Журнальный фонд СПХФУ

Библиотечный фонд техникума

ВКР

Область поиска

Формат представления найденных документов:
полный	информационный	краткий

Отсортировать найденные документы по:
автору	заглавию	году издания	типу документа

Поисковый запрос: (<.>U=537.5<.>)

Общее количество найденных документов : 3
Показаны документы с 1 по 3

IPRBooks-75796

75796

Рябчун, С. А.
Notes on the electron-phonon interaction [Электронный ресурс] : учебное пособие / Рябчун С. А. - Москва : Московский педагогический государственный университет, 2017. - 16 с. - ISBN 978-5-4263-0579-3 : Б. ц.
Книга находится в Премиум-версии ЭБС IPRbooks.
Режим доcтупа:

УДК

537.5

ББК 22.373

Кл.слова (ненормированные):
английский язык -- гамильтониан -- квантовая физика -- колебание решетки -- кристаллическая решетка -- правило ферми -- уравнение больцмана -- фонон -- электрон-фононное взаимодействие
Аннотация: These notes are a result of a series of lectures given to the MS and PhD students of the Department of Physics, Moscow State Pedagogical University. They deal with the subject of electron-phonon interaction in pure three-dimensional metals. The goal was to show how one could calculate the temperature dependence of the electron-phonon-interaction time from first principles within a simple model. Students wishing to expand their knowledge of the subject of condensed matter are invited to study any book on solid-state physics (for example by J.M. Ziman, or N.W. Ashcroft and N.D. Mermin.

(для доступа требуется авторизация)

Свободных экз. нет
Найти похожие

IPRBooks-93367

93367

Берлин, Е. В.
Индуктивные источники высокоплотной плазмы и их технологические применения [Электронный ресурс] : учебное пособие / Берлин Е. В. - Москва : Техносфера, 2018. - 464 с. - ISBN 978-5-94836-519-0 : Б. ц.
Книга находится в Премиум-версии ЭБС IPRbooks.
Режим доcтупа:

УДК

537.5

ББК 22.333

Кл.слова (ненормированные):
высокоплотная плазма -- индуктивные источники -- ионный ток -- плотность плазмы -- электрод
Аннотация: Тенденции развития современной технологии электронной техники заключаются в увеличении степени интеграции изделий на поверхности подложек, что связано как с увеличением диаметра применяемых в производстве подложек, так и с уменьшением геометрических размеров элементов изделий на их поверхности до 0,01-0,04 мкм. Для технологии изготовления изделий с микро и наноэлементами использование ВЧ разряда индуктивно связанной плазмы (ICP) как плазмообразующего источника предоставляет большие преимущества. В частности, с его помощью достигают высокую плотность плазмы (10¹¹-10¹² см‾³), минимальный разброс ионов по энергиям (Δei ≤ 5 эВ), относительно низкое рабочее давление (10‾²2÷10‾¹ Па) и низкую энергетическую цену иона (30÷80) эВ/ион. Благодаря отсутствию накаливаемых узлов источник ICP обладает большим ресурсом работы с химически активными газами. Особенно важно, что он предоставляет возможность независимого управления энергией и плотностью потока ионов, поступающих на подложку. Успехи в конструировании источников ЮР для целей микроэлектроники побудили разработчиков оборудования применить их и в других отраслях, например в азотировании стальных деталей, обработке полимерных пленок и нанесении специальных покрытий методами PVD и PECVD. За последнее десятилетие источники ICP нашли широкое промышленное применение, о котором появилось большое количество новой информации. Поэтому назрела необходимость составления обзора, цель которого — систематизация основных экспериментальных результатов разработки и применения источников ICP. В книге приведено описание принципов действия, особенностей и преимуществ источников ICP и рассмотрены многочисленные варианты конструкций современных источников ICP Приведены также примеры технологических применений описываемых источников для нанесения тонких пленок: в процессах PVD и PECVD. И кроме того, описано формирование плазмохимическим травлением трехмерных структур в различных материалах и двумерных структур в тонких пленках и связанное с такой обработкой существенное изменение свойств поверхностей различных материалов, в особенности полупроводников. Таким образом, настоящая книга представляет собой подробное справочное руководство по конструкциям и применению источников ICP Книга рассчитана на студентов, аспирантов, конструкторов нового технологического оборудования, использующего источники ICP, и технологов, работающих на таком оборудовании. Конструкторы найдут в ней обзор способов достижения высоких параметров источников ICP, а технологи ознакомятся с широким спектром их применения и полученных с их помощью достижений. Она также будет полезна в качестве учебного пособия для студентов старших курсов и аспирантов соответствующих специализаций.

(для доступа требуется авторизация)

Доп.точки доступа:
Григорьев, В. Ю.; Сейдман, Л. А.
Свободных экз. нет
Найти похожие

IPRBooks-98956

98956

Луценко, Ю. Ю.
Электродинамика высокочастотных разрядов емкостного типа [Электронный ресурс] : учебное пособие / Луценко Ю. Ю. - Томск : Томский политехнический университет, 2018. - 143 с. - Б. ц.
Книга находится в Премиум-версии ЭБС IPRbooks.
Режим доcтупа:

УДК

537.5

ББК 22.313

Кл.слова (ненормированные):
высокочастотный разряд -- электрический ток -- электродинамика -- электродинамическая модель -- электромагнитная волна
Аннотация: В пособии изложены особенности электродинамики высокочастотных разрядов емкостного типа, горящих при атмосферном давлении. Рассмотрена новая электродинамическая модель разряда, учитывающая отражение электромагнитной волны в конце канала разряда. Приведены экспериментальные данные по нелинейным электродинамическим эффектам в плазме разряда. Предназначено для студентов, обучающихся по направлению 14.03.02 «Ядерная физика и технология».

(для доступа требуется авторизация)

Свободных экз. нет
Найти похожие

Тематический навигатор

Статистика обращений

Статистика за 03.06.2024
Число запросов	0
Число посетителей	0
Число заказов	0

© Международная Ассоциация пользователей и разработчиков электронных библиотек и новых информационных технологий
(Ассоциация ЭБНИТ)