64336

    Григорьев, Е. И.
    Метрологическое обеспечение дозиметрии фотонного излучения [Электронный ресурс] : учебное пособие / Григорьев Е. И. - Москва : Академия стандартизации, метрологии и сертификации, 2016. - 24 с. - Б. ц.
Книга находится в Премиум-версии ЭБС IPRbooks.
Режим доcтупа:
УДК
ББК 30.10

Кл.слова (ненормированные):
дозиметр -- дозиметрия -- метрология -- поверка -- фотонное излучение
Аннотация: Рассматриваются основные положения метрологического обеспечения дозиметрии фотонного излучения, методы и средства поверки таких дозиметров.

(для доступа требуется авторизация)


Доп.точки доступа:
Кондратенко, С. Г.; Кувыкин, И. В.; Щипунов, А. Н.
Свободных экз. нет

44352

    Кондратенко, С. Г.
    Обеспечение единства измерений в дозиметрии фотонного излучения [Электронный ресурс] : учебно-методический модуль / Кондратенко С. Г. - Москва : Академия стандартизации, метрологии и сертификации, 2012. - 26 с. - Б. ц.
Книга находится в Премиум-версии ЭБС IPRbooks.
Режим доcтупа:
УДК
ББК 30.10

Кл.слова (ненормированные):
дозиметрия излучения -- единство измерений -- поверочная установка -- фотонное излучение
Аннотация: Учебно-методический модуль (УММ) предназначен для группового и индивидуального изучения раздела дисциплины «Поверка и калибровка средств измерений ионизирующих излучений» в области дозиметрии фотонного излучения. В УММ включены следующие фрагменты: взаимодействие фотонного излучения с веществом; принципы и устройства регистрации фотонного излучения; величины и единицы в области дозиметрии, поглощенная, эквивалентная и экспозиционная дозы фотонного излучения; методы и средства поверки; поверочные установки; методы и средства поверки встроенных и стационарных дозиметрических средств измерений.

(для доступа требуется авторизация)


Доп.точки доступа:
Григорьев, Е. И.
Свободных экз. нет

87516

    Светличный, А. М.
    Фотонно-стимулированные технологические процессы микро- и нанотехнологии [Электронный ресурс] : учебное пособие / Светличный А. М. - Ростов-на-Дону, Таганрог : Издательство Южного федерального университета, 2017. - 104 с. - ISBN 978-5-9275-2395-5 : Б. ц.
Книга находится в Премиум-версии ЭБС IPRbooks.
Режим доcтупа:
УДК
ББК 32.847

Кл.слова (ненормированные):
лазерная планаризация -- лазерное легирование -- микротехнология -- нанотехнология -- пленка вольфрама -- полупроводниковая поверхность -- технологический процесс -- фотонная обработка -- фотонно-стимулированный процесс -- фотонное излучение
Аннотация: В пособии рассмотрены взаимодействие световых потоков с полупроводниковой структурой, режимы обработки, процессы отжига и рекристаллизации поликремниевых и аморфных слоев, отжига и легирования полупроводниковых структур, формирование контактно-металлизационной системы, планаризация, а также получение диэлектрических пленок. Учебное пособие может быть использовано при подготовке магистров по направлениям 28.04.01 - Нанотехнологии и микросистемная техника, 11.04.03 - Конструирование и технология электронных средств, 11.04.04 - Электроника и наноэлектроника в курсе «Лучевые процессы нанотехнологии».

(для доступа требуется авторизация)


Доп.точки доступа:
Житяев, И. Л.
Свободных экз. нет