Бондарева, Н. И. Архитектурный образ и его коммуникативно-экспозиционные возможности [Электронный ресурс] : монография / Бондарева Н. И. - Астрахань : Астраханский инженерно-строительный институт, ЭБС АСВ, 2016. - 201 с. - ISBN 978-5-93026-043-4 : Б. ц. Книга находится в Премиум-версии ЭБС IPRbooks. Режим доcтупа:
Кл.слова (ненормированные): архитектурный образ -- искусство -- культуроведение -- экспонирование Аннотация: В монографии проводится комплексное изучение архитектурного образа в русле различных теоретико-методологических парадигм: философской, искусствоведческой, социокультурной и др. Исследование освещает одну из уникальных способностей архитектуры и ее образов выступать в качестве объекта экспонирования в различных видах искусства. Работа может быть использована в учебном процессе высших и средних учебных заведений, а также представляет интерес для культурологов, архитекторов, искусствоведов и социологов. Свободных экз. нет |
Юрчук, С. Ю. Компьютерное моделирование нанотехнологий, наноматериалов и наноструктур. Математическое моделирование фотолитографических процессов и процессов электронной литографии при создании субмикронных структур и структур с нанометровыми размерами [Электронный ресурс] : курс лекций / Юрчук С. Ю. - Москва : Издательский Дом МИСиС, 2013. - 45 с. - ISBN 978-5-87623-662-3 : Б. ц. Книга находится в Премиум-версии ЭБС IPRbooks. Режим доcтупа:
Кл.слова (ненормированные): математическое моделирование -- субмикронная структура -- фотолитография -- электронная литография Аннотация: Курс лекций описывает основные математические модели фотолитографии и электронной литографии, используемых при создании субмикронных структур. Приведены модели отдельных процессов фотолитографии: формирование изображения в фоторезисте, экспонирование, травление фоторезиста. Показаны ограничения, которые накладываются на процесс фотолитографии. Приведена теория электронной эмиссии, используемая для моделирования формирования электронного пучка. Описан эффект близости, который вносит ограничения в точность формирования изображения при электронной литографии. Показаны способы коррекции эффекта близости. Предназначен для студентов, обучающихся в магистратуре по направлению 210100 «Электроника и наноэлектроника». Свободных экз. нет |