Кузнецов, Г. Д. Элионная технология в микро- и наноиндустрии. Неразрушающие методы контроля процессов осаждения и травления наноразмерных пленочных гетерокомпозиций [Электронный ресурс] : учебное пособие / Кузнецов Г. Д. - Москва : Издательский Дом МИСиС, 2012. - 122 с. - ISBN 978-5-87623-547-3 : Б. ц. Книга находится в Премиум-версии ЭБС IPRbooks. Режим доcтупа:
Кл.слова (ненормированные): гетерокомпозиция -- микроэлектроника -- наноэлектроника -- неразрушающий метод -- элионная технология Аннотация: В учебном пособии рассматриваются неразрушающие методы контроля технологических процессов нанесения и травления наноразмерных пленочных гетерокомпозиций при использовании ионно-плазменного воздействия на материалы. Анализируются как традиционные способы контроля процессов ионно-плазменной обработки материалов электронной техники, так и специфические, связанные с применением возникающих факторов при взаимодействии ускоренных ионов с твердым телом. Особое внимание уделено использованию возникающего ионно-индуцированного тока в многослойных наноразмерных гетероструктурах и вторичной ионно-электронной эмиссии при ионном воздействии на материалы. По каждой теме приводится перечень контрольных вопросов для проверки усвоения материала и выдаются домашние задания с примером выполнения. Учебное пособие предназначено для магистров, обучающихся по направлениям «Электроника и наноэлектроника», «Нанотехнология и микросистемная техника» и может быть полезно обучающимся по направлениям «Наноматериалы» и «Физика». Доп.точки доступа: Сергиенко, А. А.; Симакин, С. Б.; Курочка, С. П.; Курочка, А. С. Свободных экз. нет |
Кузнецов, Г. Д. Элионная технология в микро- и наноиндустрии. Ускоренные ионы [Электронный ресурс] : учебное пособие / Кузнецов Г. Д. - Москва : Издательский Дом МИСиС, 2012. - 128 с. - ISBN 978-5-87623-556-5 : Б. ц. Книга находится в Премиум-версии ЭБС IPRbooks. Режим доcтупа:
Кл.слова (ненормированные): ион -- микроэлектроника -- наноэлектроника -- твердое тело -- элионная технология Аннотация: В учебном пособии рассматриваются в основном практические результаты по изменению параметров приповерхностных слоев материалов электронной техники ионным внедрением примесей. Приводятся результаты по особенностям распределения внедренной примеси в аморфных и кристаллических материалах и их теоретическое обоснование. Анализируются результаты по легированию приповерхностных слоев с использованием так называемых атомов отдачи при ионном внедрении. Соответствует программе курса «Элионная технология в микро- и наноиндустрии». Предназначено для магистров, специализирующихся по направлениям «Электроника и наноэлектроника» и «Нанотехнология и микросистемная техника», и может быть полезно обучающимся по направлению «Наноматериалы». Доп.точки доступа: Кушхов, А. Р.; Сергиенко, А. А.; Харламов, Н. А. Свободных экз. нет |
Кузнецов, Г. Д. Элионная технология в микро- и наноиндустрии [Электронный ресурс] : курс лекций / Кузнецов Г. Д. - Москва : Издательский Дом МИСиС, 2008. - 156 с. - Б. ц. Книга находится в Премиум-версии ЭБС IPRbooks. Режим доcтупа:
Кл.слова (ненормированные): ионная имплантация -- литография -- нанотехнология -- электроника -- элионная технология Аннотация: В учебном пособии рассматриваются закономерности изменения параметров тонкопленочных гетерокомпозиций материалов электронной техники при воздействии электронных, ионных потоков и низкотемпературной плазмы для микро- и наноразмерных устройств с улучшенными характеристиками. Цель данного пособия – формирование современных представлений и достижений в области микро- и наноиндустрии. Учитывая, что в рассматриваемых процессах основную роль играют электроны и ионы, принято для краткости называть технологию элионной. Соответствует программе курса «Элионная технология в микро- и нано-индустрии». Предназначено для подготовки специалистов по направлению 210100 «Электроника и микроэлектроника» и может быть полезно для обучающихся по направлению 210600 «Нанотехнология», 210601 «Нанотехнология в электронике» и по специальности 210602 «Наноматериалы». Доп.точки доступа: Кушхов, А. Р.; Билалов, Б. А. Свободных экз. нет |